Бельгийские инженеры нашли простой способ резко ускорить производство чипов
Процесс фотолитографии при изготовлении полупроводниковых пластин всегда был компромиссом между скоростью и точностью передачи рисунка. Традиционные пути увеличения скорости — повышение мощности источника излучения или чувствительности фоторезиста —...
Мощность EUV-систем ASML достигла киловатта: сканеры станут на 50% быстрее
Компания ASML, ведущий производитель фотолитографического оборудования, совершила прорыв в технологии экстремального ультрафиолета (EUV). Инженерам удалось повысить мощность источника света до 1000 ватт. Это позволит увеличить пропускную способность...
Samsung запускает тесты новейших EUV-станков в Техасе для чипов Tesla
Компания Samsung Electronics, давно присутствующая в Техасе, концентрирует основные мощности в Остине, тогда как её новейшее производство строится в городе Тейлор. Согласно последней информации, на этой площадке в марте начнутся испытания передового...
