Компания ASML, являющаяся глобальным поставщиком фотолитографического оборудования (EUV и DUV) для изготовления полупроводников, объявила о значительном прогрессе в области EUV-литографии и намерена нарастить выпуск микросхем на 50% к 2030 году. Специалистам фирмы удалось довести мощность светового источника до 1000 Вт, что даст возможность обрабатывать до 330 кремниевых пластин ежечасно и заметно сократит затраты на выпуск современных процессоров.
Источник изображения: ASML
Как сообщает Reuters, учёные создали способ для радикального усиления светового потока в аппаратах для литографии в диапазоне экстремального ультрафиолета (EUV). Данное инженерное усовершенствование к 2030 году повысит эффективность установок на 50% и усилит рыночные позиции корпорации в условиях обострения соперничества с производителями из США и Китая. Главный технический специалист ASML Майкл Пурвис (Michael Purvis) заявил об успешной работе системы мощностью 1000 Вт в реальных производственных условиях и подчеркнул, что нет принципиальных ограничений для увеличения этого значения до 2000 Вт.
Основной выгодой роста мощности источника с 600 до 1000 Вт является способность производить больше чипов за тот же промежуток времени. Поскольку микросхемы создаются методом фотолитографии, более мощное излучение уменьшает длительность экспонирования химического резиста на пластине. Вице-президент по направлению EUV-оборудования Тён ван Гог (Teun van Gogh) ожидает, что данное улучшение позволит аппаратам к 2030 году обрабатывать приблизительно 330 пластин в час, в сравнении с текущими 220. Увеличение производительности сканеров приведёт к уменьшению себестоимости каждого чипа для клиентов и сохранит экономическую привлекательность использования EUV-технологий.
Для осуществления этого замысла ASML усовершенствовала производственную методику, которая сама по себе признаётся одной из наиболее сложных технических проблем. Она основана на системе, где излучение с длиной волны 13,5 нанометра генерируется при воздействии мощного лазера на поток жидкого олова, преобразуя материал в состояние плазмы. Основным усовершенствованием явилось увеличение частоты капель до 100 000 в секунду и использование схемы с двойным лазерным импульсом для придания им формы, что принципиально отличает данную систему от существующих аналогов. Объём выполненных работ прокомментировал профессор Университета штата Колорадо Хорхе Х. Рокка (Jorge J. Rocca), охарактеризовавший достижение киловаттного уровня мощности как впечатляющий результат, основанный на глубоком знании целого ряда технологий.
Как отмечает Reuters, именно этот высокий технологический порог позволяет нидерландской компании сохранять отрыв от новых соперников, таких как американские стартапы Substrate и xLight, которые разрабатывают собственные технологии при финансовой поддержке правительства США.
