Министерство подыскивает подрядчиков для организации выпуска отечественных компонентов, применяемых в электронно-лучевой и взрывной литографии. Ранее данные материалы приобретались за границей.
Как удалось выяснить CNews, Минпромторг направил 1,9 млрд рублей на запуск изготовления сырья для электронно-лучевой и взрывной литографии. Тендеры по двум направлениям были обнародованы 10 июня 2026 года на сайте госзакупок.
Первый тендер посвящен созданию материалов для электронно-лучевой литографии (код «СВЧ Резист-1») с начальной стоимостью 1,017 млрд рублей. Второй — для нужд взрывной литографии (код «СВЧ Резист-2») на сумму 889,5 млн рублей. Заявки можно подавать до 26 июня 2026 года.
Оба контракта предусматривают полный цикл задач — от научных изысканий до внедрения серийного выпуска. Завершить опытно-конструкторские работы нужно к ноябрю 2029 года.
В рамках соглашения «СВЧ Резист-1» планируется создать 12 разновидностей материалов для электронно-лучевой литографии: резисты серий ПММА 950, ПММА 495, ЭЛРП и ММА. Они должны стать функциональными заменителями продукции немецких компаний Allresist GmbH, Microresist technology GmbH, японской ZEON и американской MicroChem Corporation.
Согласно техническому заданию, ежегодные объемы производства составят: для резистов серии ПММА — от 8 до 65 кг в зависимости от модификации, для серии ЭЛРП — по 1 кг, для серии ММА — от 10 до 20 кг.
По контракту «СВЧ Резист-2» разработают 7 видов материалов для взрывной литографии (серия ВЛ), которые придут на смену изделиям американской MicroChem Corporation — сериям LOR 5B, LOR 10B, LOR 20B, PMGI SF6, PMGI SF9, PMGI SF11, LOR 5A.
Для материалов взрывной литографии годовые объемы выпуска колеблются от 35 кг (ВЛ-1, ВЛ-3) до 170 кг (ВЛ-5, аналог PMGI SF9). Кроме того, в существенных количествах запланирован выпуск ВЛ-6 (аналог PMGI SF11, 90 кг/год) и ВЛ-7 (аналог LOR 5A, 120 кг/год).
Эти материалы применяются при изготовлении электронных устройств, включая те, что функционируют в СВЧ-диапазоне. «В Российской Федерации отсутствует выпуск материалов для электронно-лучевой литографии», — прямо отмечено в документации. Потребности науки и промышленности прежде удовлетворялись за счет поставок из недружественных стран, которые сейчас остановлены.
Работы включены в государственную программу «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».
В документации отдельно прописана возможность создания специального технологического оборудования, если подрядчик не сумеет его приобрести. В такой ситуации потребуется проектирование, изготовление и тестирование собственных станков.
Критически важные комплектующие и оборудование должны быть произведены в России. Применение импортного сырья, материалов и техники допускается лишь после согласования с заказчиком.
«Заявленные объемы выпуска выглядят скорее как создание отечественной технологической платформы, а не как удовлетворение всех возможных нужд индустрии, — сообщила CNews руководитель направления «Цифровая трансформация» Strategy Partners Светлана Архипкина. — В литографических материалах значение имеют не только килограммы как мера количества, но и неизменность свойств каждой серии, повторяемость технологического процесса и способность материала встраиваться в конкретные производственные схемы».
Как отметила Архипкина, при электронно-лучевой литографии объемы потребления на данный момент остаются умеренными: речь идет главным образом о научно-исследовательских работах, изготовлении опытных образцов, выпуске фотошаблонов, отдельных узлов СВЧ-электроники, датчиков, микромеханических систем и специализированных микросхем.Основная трудность состоит не просто в получении нужного объема вещества, а в формировании надежной цепочки поставок — от синтеза полимеров и их очистки до контроля параметров и сертификации на производственных линиях, предупреждает руководитель направления «Цифровая трансформация» Strategy Partners.
Выделенные 1,9 млрд руб. на решение такой задачи представляют собой значительное начальное вложение, однако выпуск литографических материалов — это не только химический синтез. Необходимо достичь исключительной чистоты компонентов, стабильности молекулярно-массовых показателей, внедрить специализированные системы очистки, аналитическое оборудование, метрологический контроль и долгий процесс квалификации у заказчиков, подчеркнула Архипкина.
«А если говорить о полном замещении импорта по всему спектру материалов для различных поколений микроэлектроники, включая наращивание до уровня массового производства, то, вероятно, понадобятся дополнительные вложения — как в химическую промышленность, так и в инфраструктуру для тестирования и промышленной интеграции», — резюмировала эксперт.
Напомним, электронно-лучевая литография представляет собой метод создания изображения на подложке при помощи сфокусированного потока электронов вместо света. Она применяется для изготовления фотошаблонов, СВЧ-устройств и прототипов микросхем, где требуется высокая точность (разрешение вплоть до единиц нанометров).
Взрывная литография — это метод, при котором сначала на подложку наносится специальный резист (например, LOR), формируется рисунок, затем напыляется металл, после чего резист удаляется вместе с излишками металла (происходит «взрыв»).
Электронно-лучевые резисты особенно востребованы для выпуска фотошаблонов, исследовательских и опытных серий микросхем, специализированной электроники, СВЧ-компонентов, датчиков, MEMS-устройств и других продуктов, где применяются точные топологические структуры, сообщила CNews руководитель направления «Цифровая трансформация» Strategy Partners Светлана Архипкина.
Как она отметила, взрывная литография используется в качестве дополнительного метода для создания многослойных структур, подложек и элементов, где необходим строго заданный профиль резиста. Эта технология востребована в специализированных производственных процессах, таких как СВЧ-электроника, силовая электроника и микроэлектромеханические системы.
Наибольшую потребность в таких материалах испытывают направления, где невозможно просто перенести выпуск на альтернативный процесс: фотошаблоны, разработка новых изделий, оборонная и телекоммуникационная электроника, а также специализированные компоненты.
Это не первый случай, когда Минпромторг проводит тендеры на замещение импортных критических материалов для микроэлектроники. В декабре 2025 г. ведомство объявило сразу десять контрактов на создание материалов для интегральных схем общей стоимостью около 4 млрд руб. В перечень вошли фтор-смеси, трифторид азота, особо чистый фтороформ, тетрафторметан, фоторезист для контактных окон, цериевая суспензия для щелевой изоляции, фоторезисты для литографии и электролит для формирования медных проводников.
Еще раньше, в марте 2023 г., Минпромторг уже заказывал разработку литографических материалов (фоторезистов) за 1,1 млрд руб.
Таким образом, новые тендеры на резисты для электронно-лучевой и взрывной литографии являются продолжением планомерной работы ведомства по формированию в России полной производственной цепочки материалов для микроэлектроники.
