Министерство промышленности и торговли инициирует два проекта, направленных на замещение импорта критически важного оборудования для эпитаксии — технологического процесса наращивания слоев кремния и арсенида галлия. Разрабатываемые устройства призваны стать альтернативой американским установкам Veeco, французским Riber и нидерландским ASM, ввоз которых в Россию прекращен.
Как стало известно CNews, ведомство направило 1,5 млрд рублей на создание аппарата молекулярно-лучевой эпитаксии, предназначенного для формирования гетероструктур из соединений индия, алюминия, галлия и арсенида с возможностью групповой загрузки пластин размером 76–100 мм (проект носит кодовое название «Цитадель»).
Дополнительно 463,7 млн рублей выделено на разработку устройства для осаждения слоев кремний-германия на кремниевых подложках диаметром 200 мм с использованием метода газофазной эпитаксии (проект обозначен шифром «Эпитаксия-SiGe»).
Оба тендера, организованные в формате открытого конкурса, были размещены 1 июня 2026 года, о чем свидетельствуют данные портала государственных закупок.
Устройство газофазной эпитаксии (в рамках проекта «Эпитаксия-SiGe») должно стать заменой нидерландскому оборудованию ASM — модели Epsilon® 2000, применяемой для наращивания эпитаксиальных слоев кремния и кремний-германия на пластинах диаметром 200 мм.
Аппарат молекулярно-лучевой эпитаксии (проект «Цитадель») призван заместить французскую установку Riber 49 и американскую Veeco GEN200. Прямых отечественных аналогов этим моделям в настоящее время не имеется. Данное оборудование необходимо для создания гетероструктур на базе соединений индия, алюминия, галлия и арсенида на подложках диаметром 76 и 100 мм.
В рамках научно-исследовательской работы «Эпитаксия-SiGe» исполнителю предстоит выполнить моделирование и создать три макета ключевых компонентов будущего устройства: реактор для газофазной эпитаксии, автоматический загрузчик-робот и модуль предэпитаксиальной обработки, обеспечивающий сухую химическую очистку поверхности пластин.
Реактор должен быть рассчитан на нагрев до 1180°C и функционировать в интервале давлений от низкого вакуума до атмосферного. Скорость осаждения кремниевого слоя должна составлять не менее 6 мкм/час, а кремний-германиевого — не менее 0,5 мкм/час при содержании германия от 10%. К герметичности системы предъявляются сверхвысокие требования.
По опытно-конструкторской работе «Цитадель» исполнитель обязан разработать конструкторскую документацию с литерой «О1» и изготовить опытный образец аппарата молекулярно-лучевой эпитаксии, поддерживающего групповую загрузку подложек. Устройство должно обеспечивать одновременную обработку минимум пяти подложек диаметром 76 мм или трех подложек диаметром 100 мм.
В перечне технических условий для монтажа указано: остаточное давление в камере роста после нагрева не должно превышать пяти стомиллиардных долей паскаля. Разброс толщины эпитаксиальных пленок на подложке диаметром 100 мм — максимум 3%, вариация легирования n-типа — не более 5%, p-типа — до 20%. Скорость осаждения — от 1 микрона в час, температура подложки — не ниже 750°C, частота вращения ростового механизма — не менее 40 оборотов в минуту.
Оборудование должно быть оснащено 10 портами для источников молекулярных пучков, оснащенных тиглями объемом от 700 кубических сантиметров каждый для галлия, алюминия и индия. В комплектацию также входят: вентильный источник мышьяка, газовый источник CBr₄, система дифракции быстрых электронов, анализатор фоновой атмосферы и инфракрасный оптический пирометр.
Как и в других тендерах, объявляемых ведомством для замены зарубежного оборудования, предполагается использование отечественных компонентов.
В техническом задании проекта «Цитадель» строго зафиксировано требование по импортозамещению. Ключевые узлы — вакуумные камеры и насосы, молекулярные источники, запорная вакуумная арматура, центральный управляющий контроллер системы, программное обеспечение — обязаны быть произведены в России.
Применение зарубежных критических компонентов разрешается лишь при наличии обоснования в технической документации и письменного одобрения Министерства промышленности и торговли. В техзадании отдельно подчеркнуто, что использование импортных деталей должно быть аргументировано.
Работы по проекту «Эпитаксия-SiGe» необходимо завершить к июню 2029 года, по «Цитадели» — к октябрю 2030 года.
