Новейшие литографические системы ASML привлекают внимание производителей полупроводников, даже тех, кто не планирует в ближайшем будущем переходить на сканеры с высокой числовой апертурей (High-NA). При этом голландская компания заявляет, что проведённые тесты подтвердили высокий уровень готовности данного оборудования к запуску в массовое производство микросхем.
Источник изображения: ASML
Этими подробностями в беседе с Reuters поделился технический директор ASML Марко Питерс (Marco Pieters). Результаты испытаний оборудования High-NA EUV компания намерена представить на профильной конференции в Сан-Хосе, Калифорния. С помощью новейших литографов ASML, позволяющих создавать чипы по нормам менее 2 нм, уже было обработано около полумиллиона кремниевых пластин.
По словам ASML, эти литографические сканеры, каждый из которых оценивается примерно в $400 млн, технически готовы к серийному выпуску чипов. Они демонстрируют необходимую точность экспонирования, а их простой для наладки и обслуживания не превышает 20% рабочего времени, что позволяет уже сейчас рассматривать их для массового производства передовых полупроводников. Однако клиентам ASML, включая Intel, TSMC и Samsung, которые уже начали изучение этой техники, потребуется ещё два-три года для полной адаптации своих процессов к High-NA EUV. К концу текущего года компания планирует снизить время простоя оборудования до 10%,进一步提升 показатели его эффективности. ASML готова активно предоставлять заказчикам данные, которые убедят их в практической ценности внедрения таких систем.
